ผลิตภัณฑ์ทั้งหมด
-
เดวิดบริษัทที่ดีด้วยบริการที่ดีและมีคุณภาพและชื่อเสียงสูง หนึ่งในซัพพลายเออร์ที่เชื่อถือได้ของเรา สินค้าจัดส่งตรงเวลาและบรรจุภัณฑ์ที่ดี -
จอห์น มอร์ริสผู้เชี่ยวชาญด้านวัสดุ การประมวลผลที่เข้มงวด การค้นพบปัญหาในภาพวาดการออกแบบและการสื่อสารกับเราในเวลาที่เหมาะสม บริการที่เอาใจใส่ ราคาสมเหตุสมผลและคุณภาพดี ฉันเชื่อว่าเราจะมีความร่วมมือมากขึ้น -
jorgeขอบคุณสำหรับบริการหลังการขายที่ดีของคุณ ความเชี่ยวชาญที่ยอดเยี่ยมและการสนับสนุนทางเทคนิคช่วยฉันได้มาก -
เปตราผ่านการสื่อสารที่ดีมาก แก้ปัญหาทุกอย่าง พอใจกับการซื้อของฉัน -
Adrian Hayterสินค้าที่ซื้อในครั้งนี้มีความพึงพอใจมาก คุณภาพดีมากและการรักษาพื้นผิวนั้นดีมาก ฉันเชื่อว่าเราจะสั่งซื้อครั้งต่อไปในไม่ช้า
คำหลัก [ semiconductor coating tantalum sputtering target ] การจับคู่ 5 ผลิตภัณฑ์.
PVD Coating เป้าหมายการกระจาย Tantalum สําหรับการเคลือบครึ่งตัวนําและการเคลือบแสง
| ชื่อ: | เป้าหมายการเคลือบ PVD Tantalum |
|---|---|
| เกรด: | Ta1 Ta2 RO5200 RO5400 RO5252 RO5255 |
| ความบริสุทธิ์: | ≥99.95% |
เป้าหมายโมลิบดีนัมสปัตเตอร์ 20 มม. สำหรับอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ เป้าหมายโมลิบดีนัม แผ่นโมลิบดีนัม ผลิตภัณฑ์โมลิบดีนัม
| ชื่อ: | โมลิบดีนัมสปัตเตอร์เป้าหมายสำหรับอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ |
|---|---|
| วัสดุ: | โมลิบดีนัมและโลหะผสมโมลิบดีนัม |
| ความบริสุทธิ์: | 99.95% |
สะอาดสูง Sputter การเคลือบ Tantalum เป้าหมาย Tantalum Disc เป้าหมาย 99.95% 99.999%
| ชื่อ: | เป้าหมายการเคลือบสปัตเตอร์แทนทาลัม |
|---|---|
| เกรด: | RO5200,RO5400,RO5252,RO5255,Ta1,Ta2 |
| ความบริสุทธิ์: | 99.95% 99.99% |
Zr702 Zr705 จิรคอนิโมเป้าหมาย ไทเทเนียม ทองเหลืองซิรคอนิโม เป้าหมายเคลือบ Sputter
| ชื่อ: | Zr702 Zr705 จิรคอนิโมเป้าหมาย ไทเทเนียม ทองเหลืองซิรคอนิโม เป้าหมายเคลือบ Sputter |
|---|---|
| วัสดุ: | เซอร์โคเนียมและโลหะผสมเซอร์โคเนียม |
| ระดับ: | Zr702,Zr704,Zr705,RO60001,RO60901,RO60804 |
10 มิลลิเมตรความหนา ทันทัลลัมกลมผงผสม ASTM B708 Ta Disc
| ชื่อ: | ดิสก์ทันทัล |
|---|---|
| เกรด: | Ta1 Ta2 RO5200 RO5400 RO5252 RO5255 |
| ความหนา: | 0.2 ~ 50 มม. |
1