เรือทังสเตนการระเหยการระเหยสำหรับการระเหยแบบ Resistive เรือเคลือบการระเหยด้วยสุญญากาศ

แหล่งกำเนิดการระเหยแบบต้านทานโดยใช้เรือระเหยทังสเตน

1.คำอธิบายของเรือทังสเตนของแหล่งการระเหยแบบต้านทานสำหรับการระเหย:

เรือทังสเตนประเภทหนึ่งถูกเคลือบหรือระเหย และเรือทังสเตนมักถูกใช้ในธุรกิจเคลือบการระเหยในธุรกิจการเคลือบผิวด้วยการระเหยด้วยสุญญากาศ เรือทังสเตนที่ผ่านการระเหยมักถูกใช้เป็นแหล่งการระเหยแบบต้านทาน เนื่องจากจุดหลอมเหลวสูง ความดันไออิ่มตัวต่ำ และคุณลักษณะทางเคมีที่เสถียรในอุปกรณ์เคลือบสูญญากาศ เรือทังสเตนประเภทการระเหยเป็นส่วนประกอบที่จำเป็น และคุณภาพของการเคลือบจะขึ้นอยู่กับเรือที่ใช้จุดหลอมเหลวของวัสดุเคลือบต้องไม่สูงกว่าจุดหลอมเหลวของเรือทังสเตนเมื่อเรือทังสเตนชนิดระเหยกลายเป็นไอมิฉะนั้นจะไม่มีทางดำเนินการต่อไปได้

2. ประเภทของการระเหย แหล่งการระเหยแบบ Resistive เรือทังสเตน:

3. กระบวนการผลิตการระเหยสำหรับแหล่งกำเนิดการระเหยแบบ Resistive, เรือทังสเตน:

กระบวนการระเหยเกี่ยวข้องกับการกลายเป็นไอหรือระเหิดของสารที่จะเปลี่ยนเป็นฟิล์มในสุญญากาศ ทำให้เกิดการตกตะกอนบนพื้นผิวของวัสดุพิมพ์หรือชิ้นงานเรือทังสเตนที่เคลือบด้วยไอระเหยถูกเตรียมในลักษณะที่คล้ายกับเรือทังสเตนที่ประทับตรา ยกเว้นว่าเรือลำแรกมีรูไอน้ำบนฝาครอบเรือ

4. การประยุกต์ใช้เรือทังสเตนที่ใช้เป็นแหล่งระเหยตัวต้านทานสำหรับการระเหย:

ในแหล่งต้านทานการระเหย มักใช้เรือทังสเตนของประเภทการระเหยเริ่มแรกเรือทังสเตนจะวางอยู่ระหว่างอิเล็กโทรดทั้งสอง จากนั้นจึงวางวัสดุไว้ตรงกลาง และสุดท้าย อิเล็กโทรดจะค่อยๆ เติมพลังงานความร้อนที่เกิดจากเรือทังสเตนที่มีจุดหลอมเหลวสูงจะถูกถ่ายโอนไปยังวัสดุเคลือบโดยกระแสสารเคลือบจะระเหิดหรือระเหยเมื่ออุณหภูมิของเรือทังสเตนสูงเกินจุดหลอมเหลวของสารเคลือบ

คุณต้องการทราบข้อมูลเพิ่มเติมเกี่ยวกับผลิตภัณฑ์ของเราหรือไม่?